3、構造表現結果

（1）透射電鏡剖析

圖五分別為變大一萬(wàn)倍和十萬(wàn)倍的CTS/MMT透射電鏡圖。由圖得知，殼聚糖呈塊狀層疊、打卷在蒙脫土的表層，其遍布較為勻稱(chēng)，CTS/MMT復合材質(zhì)的外表較為松散，仍具備多孔材料。

（2）傅立葉紅外線(xiàn)定量分析

圖6為CTS/MMT原材料的紅外光譜圖。從圖上能夠看得出，CTS/MMT在1420cm^-1處-CH₂的C-H形變震動(dòng)消化吸收峰和1445cm^-1處-CH₃的C-H形變震動(dòng)，及其在1565cm^-1和1610cm^-1處產(chǎn)生的N-H伸縮式振蕩峰，均歸屬于殼聚糖的特點(diǎn)峰；在3630cm^-1處的AI-O-H伸縮式振蕩峰，及其在515cm^-1、795cm^-1、910cm^-1等處的震動(dòng)峰，均所屬鈣基蒙脫土的特點(diǎn)峰。因為表明CTS/MMT復合材質(zhì)兼顧蒙脫土和殼聚糖的特點(diǎn)。

（3）X射線(xiàn)衍射剖析

圖7為CTS/MMT原材料的X射線(xiàn)衍射圖。由圖能夠 看得出，蒙脫土仍維持比較詳細的分子結構，CTS/MMT在2θ=7.064°處發(fā)生透射峰（蒙脫土構造的001峰），由布拉格方程測算獲得其層間隔為1.25nm，比照參考文獻獲知：改性材料所得的CTS/MMT的層間隔并沒(méi)有擴張，絕大多數的殼聚糖沒(méi)有進(jìn)到固層，只是負荷于蒙脫土的外表上，這，可能是因為反映原材料殼聚糖的含量過(guò)大，難以進(jìn)到蒙脫土固層。

（4）熱失重剖析

圖8各自為CTS、MMT、CTS/MMT三種原材料的熱重分析曲線(xiàn)圖。從圖上a線(xiàn)能夠 看得出蒙脫土的失凈重不大，僅在氣溫做到600℃后才有小量失重狀態(tài)，至800℃時(shí)總失重狀態(tài)率約為6%，表明蒙脫土的耐熱性非常好；從c線(xiàn)能夠 看得出殼聚糖在105℃以前，因喪失內腔內的束縛水而發(fā)生輕度的失重狀態(tài)；在200℃～370℃、400℃～570℃發(fā)生了比較嚴重的失重狀態(tài)，主要是發(fā)生了分解反應，殼聚糖分子結構中的C-N、C-C離子鍵出現破裂并以小分子水的方式釋放出來(lái)，至800℃時(shí)總失重狀態(tài)率達98.39%；從b線(xiàn)能夠 顯著(zhù)看得出復合型回應劑的失重狀態(tài)率處于殼聚糖與蒙脫土中間，伴隨著(zhù)氣溫的上升，失凈重逐步提升，關(guān)鍵為殼聚糖等有機高分子的燒失，表明殼聚糖取得成功負荷在蒙脫土上。由圖得知，CTS/MMT總失重狀態(tài)率是30.9%，經(jīng)測算可獲得在105℃～800℃區段CTS/MMT失重狀態(tài)率是28%，即是殼聚糖在蒙脫土上的承載量；此值低于基礎理論測算值（38.46%），表明在復合型改性材料全過(guò)程中也許有一部分殼聚糖產(chǎn)生化學(xué)降解而外流。

三、結果

以殼聚糖（CTS）、蒙脫土（MMT）為原材料根據復合型改性材料制取CTS/MMT復合材質(zhì)，并用以糖汁回應褪色，以糖汁褪色實(shí)際效果做為認證指標值，各自調查CTS/MMT的配制加工工藝前提對糖汁褪色率的干擾規律性，并選用正交實(shí)驗進(jìn)一步提升CTS/MMT的配制加工工藝，得到 最優(yōu)控制標準為：溫度在40℃、反應速度4h、殼聚糖的劑量為2.5g、甲酸濃度值為1.5%；危害褪色作用的層次要素次序為：反應速度＞甲酸濃度值＞殼聚糖的使用量＞反映溫度。根據透射電鏡、紅外光譜分析、X射線(xiàn)衍射和熱失重剖析對CTS/MMT開(kāi)展構造表現，得知殼聚糖已取得成功負荷于蒙脫土表層，但進(jìn)到固層較少，CTS/MMT兼顧蒙脫土和殼聚糖的特點(diǎn)，且依然維持蒙脫土的多孔材料；依據CTS/MMT熱失重率數據信息測算可獲得殼聚糖承載量為28%。這種均可為無(wú)硫、超低溫、高效率的糖用回應吸收劑及回應加工工藝的研發(fā)給予理論基礎。

申明：文中常用照片、文本來(lái)源于《中國食品添加劑》，著(zhù)作權歸原作全部。